Caractérisations optiques d’un film mince d’aluminium déposé par pulvérisation ionique sur substrat de silicium

Ing. J.-P. de NEUVILLE
Ing. E. LEGRAND
GRAMME – Liège
Dr K. FLEURY-FRENETTE
Centre Spatial de Liège

Depuis les années 1850, la pulvérisation a connu un essor extraordinaire pour trouver des applications dans des domaines très variés, dont notamment les applications optiques. Le but de ce travail est d’étudier des profils de dépôt, principalement d’aluminium, et de déterminer l’évolution des propriétés optiques en fonction de la position sur le substrat. Il est montré que les propriétés se dégradent à partir d’une certaine distance de l’axe de pulvérisation. Ce phénomène peut s’expliquer notamment par l’angle incident du dépôt.

Mots-Clefs: aluminium, pulvérisation, profil, dépôt, sputtering, magnétron, plasma, réflectivité, métallique, silicium

Since the 1850s, sputtering has been expanding rapidly and this technology has been used in various fields, especially in optical applications. The purpose of this work is to study deposition profiles, mainly of aluminum, and to show the evolution of optical properties depending on the position on the substrate. It is shown that these properties degrade with a certain distance from the sputtering axis. This phenomenon can notably be explained by the incident angle of the deposition.

Keywords : aluminum, sputtering, profile, deposition, sputtering, magnetron, plasma, reflectivity, metal, silicon


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Revue scientifique des ISILF n°25, 2011, p113